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簡(jiǎn)要描述:潔凈室檢測(cè)-電子廠塵埃粒子測(cè)試 潔凈度檢測(cè) GB50472-2008 電子廠房設(shè)計(jì)規(guī)范同GB50073-2013潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范潔凈度的測(cè)試方法一致,采樣點(diǎn)應(yīng)均勻分布于潔凈室(區(qū))的整個(gè)面積內(nèi),并應(yīng)位于工作區(qū)的高度,活動(dòng)高度宜距離地面0.8每個(gè)采樣點(diǎn)的最小采樣時(shí)間為1min.每一采樣點(diǎn)的每次采樣量應(yīng)至少為2L,采樣量應(yīng)按下式計(jì)算:
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潔凈室檢測(cè)-電子廠塵埃粒子測(cè)試 GB50472-2008 電子廠房設(shè)計(jì)規(guī)范同GB50073-2013潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范潔凈度的測(cè)試方法一致
潔凈室檢測(cè)-電子廠塵埃粒子測(cè)試潔凈度的檢測(cè),應(yīng)符合下列規(guī)定:
1、應(yīng)使用采樣量大于1L/min光學(xué)粒子計(jì)數(shù)器(激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器),應(yīng)根據(jù)粒徑鑒別能力、粒子濃度適用范圍和計(jì)數(shù)效率等要求選用儀器。儀器應(yīng)有有效的標(biāo)定合格證書(shū)。
2、最少采樣點(diǎn)應(yīng)按下式計(jì)算:
NL=√A
式中NL——最少采樣點(diǎn);
A——潔凈室或被控潔凈區(qū)的面積(㎡)。
3、采樣點(diǎn)應(yīng)均勻分布于潔凈室(區(qū))的整個(gè)面積內(nèi),并應(yīng)位于工作區(qū)的高度,活動(dòng)高度宜距離地面0.8m;每個(gè)采樣點(diǎn)的最小采樣時(shí)間為1min.
4、每一采樣點(diǎn)的每次采樣量應(yīng)至少為2L,采樣量應(yīng)按下式計(jì)算:
Vs={20/ Cn.m}×1000
式中:Vs——每個(gè)采樣點(diǎn)的每次采樣量,以L表示;當(dāng)Vs很大時(shí),可使用順序采樣法;
Cn.m——被測(cè)潔凈室空氣潔凈度等級(jí)的被測(cè)粒徑的限值(pc/m3);
20——在規(guī)定被測(cè)粒徑粒子的空氣潔凈度等級(jí)限值時(shí),可測(cè)到的粒子顆數(shù)(pc)。
5 、當(dāng)潔凈室或潔凈區(qū)僅有一個(gè)采樣點(diǎn)時(shí),則在該點(diǎn)應(yīng)至少采樣3次。
潔凈室檢測(cè)-電子廠潔凈度塵埃粒子測(cè)試 判定參考表格
GB50073-2013潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范 | |||||||
空氣潔凈等級(jí)(N) | 最高濃度極限(顆粒數(shù)/m3) | 近似對(duì)應(yīng)傳統(tǒng)規(guī)格 | |||||
0.1μm | 0.2μm | 0.3μm | 0.5μm | 1.0μm | 5.0μm | ||
1 | 10b | 2 | |||||
2 | 100 | 24 | 10 | 4 | |||
3 | 1,000 | 237 | 102 | 35 | 8 | 1 | |
4 | 10,000 | 2,370 | 1,020 | 352 | 83 | 10 | |
5 | 100,000 | 23,700 | 10,200 | 3,520 | 832 | 29 | 100 |
6 | 1,000,000 | 237,000 | 102,000 | 35,200 | 8,320 | 293 | 1,000 |
7 | 352,000 | 83,200 | 2,930 | 10,000 | |||
8 | 3,520,000 | 832,000 | 29,300 | 100,000 | |||
9 | 35,200,000 | 8,320,000 | 293,000 |
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